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薄膜段 北方华创 HORIC L6431 LPCVD
样品尺寸6inch圆硅片，兼容4inch设备类型低压化学气相沉积（LPCVD）炉管配置四管卧式LPCVD系统可沉积薄膜TEOS(SiO₂)、Poly-Si、Si
产品详情
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样品尺寸 |
6inch圆硅片，兼容4inch |
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设备类型 |
低压化学气相沉积（LPCVD） |
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炉管配置 |
四管卧式LPCVD系统 |
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可沉积薄膜 |
TEOS(SiO₂)、Poly-Si、Si₃N₄ |
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工艺类型 |
薄膜淀积、氧化工艺 |
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工作压力 |
低压（10~100 Pa量级） |
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加热方式 |
电阻丝加热炉管 |
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装片方式 |
石英舟垂直装片 |
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应用领域 |
栅氧化层、多晶硅电极、钝化层 |