LDW 350/ 500 Mask Writer为基于130nm制版节点而研制的直写光刻设备，该设备基于先进的DLP数字光刻技术，采用高精度的精密运动系统、光学系统、微环境控制系统，同时具备实时聚焦、自动居中对位等功能，该设备可应用于制版、MEMS制造、物联网、移动设备、LED等领域。
EBPG5200设备性能可曝光片源参数直径从几毫米到3英寸、厚度达35毫米的零件以及6英寸掩模板。该仪器可配备基板支架，以处理高达200毫米的晶片。
