本方案依托电子束光刻加工制备纳米结构母版，结合纳米压印工艺实现大面积平面超表面器件量产。样品为多尺寸矩形纳米棒相位调控阵列，最小线宽可达 30 nm 量级，浮雕厚度精准控制在 48 nm，纳米棒多种长度组合实现光波相位离散调控。

✅ 产品特点 

・纳米级精细图形，最小特征尺寸＜35 nm

・超薄浮雕结构，厚度精准可控

・自定义多单元纳米棒阵列，灵活实现相位设计 

✅ 技术优势 

・EBL直写快速打样，支持结构快速迭代

・尺寸偏差＜5 nm，浮雕深度高精度控制  

・母版完成后可转移纳米压印批量制造

・支持厘米级大面积图形制备

✅ 应用场景 

AR 光波导、平面超透镜、全息光学元件、3D 结构光传感、微型分光器件、偏振调控光学芯片、前沿光子学科研样品。