依托电子束光刻 (EBL) 工艺，制备高精度一维光栅母版。可加工倾斜闪耀光栅、垂直矩形光栅、多级阶梯相位光栅，精确调控光栅倾角、周期与深度，满足定向衍射、相位调制需求；制备母版可直接光学表征，也可对接纳米压印实现规模化复制。

✅ 产品特点 

・支持自定义光栅倾斜侧壁角度，实现闪耀定向衍射

・光栅侧壁平滑，有效抑制杂散光

・周期、深度、倾角多参数灵活定制

・EBL 光刻图形保真度高，纳米级加工精度

・4 英寸基底大面积图形均匀稳定

✅ 技术优势 

・电子束无掩膜直写，光栅方案快速迭代打样

・兼容倾斜光栅、矩形光栅、阶梯光栅多种结构

・一维周期结构尺寸控制精度优异

・支持 8及以下英寸硅片加工，可拓展更大尺寸样品

・高精度光栅母版，适配纳米压印量产链路

✅ 应用场景 AR 光波导耦合光栅、光谱仪分光元件、激光色散补偿光栅、衍射光束整形元件、集成光子芯片