依托电子束光刻工艺加工 制备高精度浮雕型超表面母版，结合纳米压印技术实现大面积平面光子器件量产。可实现一维纳米光栅、纳米方柱、多尺寸矩形像素等多种超表面单元图形，最小加工线宽可达 18 nm，浮雕厚度稳定控制在 47 nm，依靠不同纳米单元几何尺寸实现光波相位、振幅、偏振灵活调控。

✅ 产品特点 

・极限纳米加工能力，最小特征尺寸低至 18 nm

・侧壁陡直，母模耐磨损、稳定性强

・支持多样化单元结构自定义设计

・超薄浮雕层，厚度高精度可控

・大面积阵列形貌均匀，光学损耗低

✅ 技术优势 

・EBL 无掩膜直写，快速迭代超表面设计方案

・图形尺寸偏差＜5 nm，浮雕厚度精准可控

・兼容硅、石英光学和碎片基底，适配多种应用需求

・母版完成后可转入纳米压印，低成本大面积量产

・支持厘米级大视场连续图形制备

✅ 应用场景 

AR 衍射光波导、微型光谱仪、光束整形衍射元件、微纳光子学科研样品。