光刻 LDW 350/ LDW 500 Mask Writer 制版光刻机
LDW 350/ 500 Mask Writer为基于130nm制版节点而研制的直写光刻设备，该设备基于先进的DLP数字光刻技术，采用高精度的精密运动系统、光学系统、微环境控制系统，同时具备实时聚焦、自动居中对位等功能，该设备可应用于制版、MEMS制造、物联网、移动设备、LED等领域。
产品详情
| 型号 | LDW 350 | LDW 500 |
| 基板尺寸 | 100~200mm | 100~200mm |
| 基板厚度 | 2.5~6.5mm | 2.5~6.5mm |
| 网格 | 10nm | 36nm |
| 最小线宽线距 | 350nm | 500nm |
| CDU [3σ] | ±10% | ±10% |
| 套刻精度[3σ] | ±150nm | ±350nm |
| 位置精度[3σ] | ±100nm | ±200nm |
| 激光器波长 | 375nm | 375nm |
| 产能 | 220mm²/min | 240mm²/min |