激光直写制版设备说明
LDW 350/ 500 Mask Writer为基于130nm制版节点而研制的直写光刻设备，该设备基于先进的DLP数字光刻技术，采用高精度的精密运动系统、光学系统、微环境控制系统，同时具备实时聚焦、自动居中对位等功能，该设备可应用于制版、MEMS制造、物联网、移动设备、LED等领域。
产品详情
极限分辨率： 350nm 光源波长：375nm 衬底尺寸： ≤ 200*200mm 衬底厚度：2.8mm ≤ Thickness ≤6.3mm