芯片制造的核心是光学微纳加工，它的参数包括：分辨力、套刻精度、视场、加工速度等等。光学微纳加工的作用便是将掩膜版上的图形转移到代加工的基片上。由于传统技术常受限于光学衍射极限，原来主要是通过缩短光源的波长，用来增大光学系统中物镜的数值孔径来提高分辨力，但这仍然存在很大的极限。目前，光学微纳制造加工技术面临着的新的基于和挑战，未来仍有一断很长的路要走。