什么是纳米压印技术？
纳米压印光刻 (NIL) 是一种利用带有微纳结构图案的模板，将图案转移到相应衬底上制作出纳米级图案的微纳加工工艺，转移的介质通常是一层很薄的聚合物膜，是加工聚合物结构最常用的加工方法。拥有成本低、工期短、产量高、分辨率高等优点。

成熟且常用的纳米压印技术工艺主要有：纳米热压印(T-NIL) 技术、紫外光固化压印( UV-NIL) 技术和微接触印刷( μCP)。
纳米压印原理
纳米压印过程中主要包含三个步骤：1、图形模板制备    2、图形复制    3、图形转移

在硅或其他衬底上预先附上聚合物涂层（例如聚甲基丙烯酸甲酯、聚苯乙烯、聚碳酸酯等）作为基体，将已刻有纳米图案的模板通过相应的设备和器具配合，与基体接触并进行精确压印定型，经过一定的条件（例如时间、压力、温度、光照等）后，将模板与基体分离，这样便能实现图形的复制，使模板表面的纳米结构图案转移到基体表面的聚合物涂层上。随后，采用刻蚀技术或剥离技术，将聚合物涂层上的纳米结构图案转移到基体上，实现纳米结构图案的转移。